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電子行業用EDI超純水設備 純化水設備
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詳情內容/ Content details

產品介紹

     電子、半導體、液晶顯示、光伏工業生產在制作過程中,往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定的話,會影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。
     電子行業超純水設備是采用預處理、二級反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法,將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備;是電子廠生產用超純水制備不可缺少的裝置。

應用范圍:
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;
3、實驗室和中試車間用超純水;
4、汽車、家電表面拋光處理;
5、光電子產品;
 

 
 
 

工藝設計

電子行業超純水設備工藝流程:

原水→原水加壓泵→多介質過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透主機→中間水箱→中間水泵→EDI系統→微孔過濾器→用水點

設備特點

電子行業EDI超純水模塊(電除鹽)的優點
1、不需要酸堿再生:電除鹽的操作安全的,廢水的處理變得簡單了。
2、可連續生產:電除鹽的生產是連續的,免除了使用混床過程中復雜的再生操作,減少了很多備用設備。
3、不需要處理廢酸堿:沒有廢酸堿的中和排放處理系統。電除鹽的濃水可以直接排放或返回到RO的進口(EDI中濃水量比純水少得多)。
4、安裝條件簡單:電除鹽在安裝時,占地面積小,大部分標準廠房都能滿足,對于較低的廠房,可以通過對電除鹽模塊的水平配置解決。
5、運行成本低:電除鹽系統與各種混床相比,在價格上有競爭性。
6、水質穩定:電除鹽的出水質量穩定有把握。不會有普通混床那樣的水質變化。

技術參數

EDI超純水設備基本參數

 1、給水:RO純水,一般水的電導率為4-30us/cm。
 2、PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高)
 3、溫度:5-35℃
 4、進水壓力:最大為4kg/cm2(60psi),最小為1.5kg/cm2(25psi)。
 5、出水電阻率:1Ω·m~18.2Ω·m(常溫下20°C

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